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儀器簡介：

英***Quorum出品的CryoSEM掃描電鏡冷凍臺、離子濺射鍍膜儀、蒸發鍍碳儀、熱蒸發鍍膜儀、臨界點干燥儀、冷凍干燥儀、等離子清潔刻蝕灰化儀等系列產品，作為世界電鏡制樣設備，在電子顯微鏡(掃描電鏡/透射電鏡)的樣品制備領域中應用非常廣泛。

產品主要分類及型號如下：

Sputter Coating Systems 
磁控離子濺射鍍膜儀(可鍍金、鉑、銥、鉻、鋁...用于鎢燈絲電鏡、場發射電鏡、掃描探針以及材料科研等領域) 
型號及簡述：
SC7620緊湊型離子濺射鍍膜儀（噴金儀）：普通機械泵抽真空，模擬控制，具有Glow discharge輝光放電處理功能。可選噴碳附件實現噴金/噴碳兩個用途 ；
Q150R S離子濺射鍍膜儀：機械泵抽真空系統，CPU程序全自動控制，觸膜屏用戶界面，可鍍多種貴金屬膜材，也可鍍相對較厚的膜；可選配輝光放電處理單元
Q150T S高分辨率離子濺射鍍膜儀：蝸輪泵高真空系統，CPU程序全自動控制，觸膜屏用戶界面，設有自動擋板和靶材預清潔程序 ，不但可鍍多種貴金屬膜材，也可鍍多種易氧化金屬膜材；可鍍相對較厚的膜；可選配輝光放電處理單元
Q300QQ Q300R T大腔室、多功能離子濺射鍍膜儀 ：三靶大面積濺射系統之旋轉機械泵版本，CPU程序全自動控制，觸膜屏用戶界面，適合不氧化的貴金屬如金（Au）、鉑（Pt）等靶材大面積鍍膜
Q300T T大腔室、多功能、高真空離子濺射鍍膜儀 ：三靶大面積濺射系統之高分辨渦輪泵版本，CPU程序全自動控制，觸膜屏用戶界面，標配有自動擋板和靶材預清潔程序，既適合貴金屬、也適合易氧化金屬等靶材大面積鍍膜
Q300T D大腔室、多功能、高真空雙頭離子濺射鍍膜儀：渦輪泵高真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面，大腔室，雙濺射鍍膜頭，可自動順序濺射兩層不同的成膜材料；標配有自動擋板和靶材預清潔程序，既適合貴金屬、也適合易氧化金屬等靶材單層鍍膜、雙層或多層依次鍍膜。

Carbon Coating and Evaporation Systems 
鍍碳儀和蒸鍍儀（蒸鍍碳及金屬） 
型號及簡述：
K975X/K975XS多用途高真空蒸發鍍膜儀：渦輪泵抽真空系統，CPU程序自動控制，LCD顯示屏，既可熱蒸發鍍碳，也可用熱蒸發方式蒸鍍多種金屬等膜材；可選配離子濺射模塊、低角度陰影組件、雙源蒸發模塊等多種功能模塊
Q150R E碳蒸鍍儀：機械泵抽真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面，標配碳絲/碳繩頭，可蒸鍍碳導電膜
Q150T E高真空熱蒸發鍍膜儀：渦輪泵抽真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面；標配碳棒頭，可蒸鍍碳；可選蒸鍍金屬等多種膜材（向上蒸鍍、向下蒸鍍兩種方式），亦可使用鉬舟實現對電鏡光闌的清潔處理（燒光闌）

Coater with both Sputtering and Evaporation Systems 
離子濺射/熱蒸發***體化鍍膜儀
型號及簡述：
Q150R ES離子濺射/碳蒸發***體化鍍膜儀：機械泵抽真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面， 集成了離子濺射和碳蒸鍍兩種沉積功能的鍍膜儀（兼具噴金儀/噴碳儀兩臺儀器的功能）；具有智能邏輯自動識別系統
Q150T ES高真空離子濺射/熱蒸發***體化鍍膜儀：蝸輪泵抽真空系統，CPU程序自動控制，觸膜屏用戶界面， 集成了高分辨離子濺射和熱蒸鍍兩種沉積功能的鍍膜儀（兼具高分辨濺射儀/高真空蒸鍍儀兩臺儀器的功能）；具有智能邏輯自動識別系統

Freeze Driers(Peltier/LN2 Cooled ) 
冷凍干燥儀(Peltier電制冷/液氮制冷) 
型號：K750X,K775X... 

Critical Point Driers（CPD） 
臨界點干燥儀 
型號：垂直腔室:K850,K850WM；水平腔室:E3000/E3100 

RF Plasma (Ashing/Etching) Units 
射頻等離子刻蝕單元（清潔、灰化） 
型號：K1050X，K1050XT 

Cryogenic Systems for Electron Microscopes （CryoSEM）
掃描電鏡冷凍制備傳輸系統（掃描電鏡冷凍臺）,可將普通SEM或場發射SEM改造成能直接觀察含水樣品（無需脫水干燥）的低溫冷凍掃描電鏡！ 
型號：K1250X,PP2000,PP2000T,PP3000T 

ESEM / VP Cooling Stage 
環掃/可變真空 掃描電鏡冷臺（掃描電鏡小冷臺）
型號：K25X 

技術參數：詳細技術參數見各型號的樣本資料，或訪問：www.tansi.com.cn查看詳細參數。也可來電咨詢：，85432278

主要特點：英***Quorum儀器是世界****的電鏡制樣設備專業制造廠商，以其無與倫比的產品質量以及長達三年的質保期等特點深受用戶好評。