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掃描探針顯微鏡（SPM）
掃描探針光刻系統（SPL）
價 格：詢價
產 地：更新時間：2021-01-18 15:11
品 牌：型 號：
狀 態：正常點擊量：2016
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Nano analytik公司成立于2010年4月，技術源自德***伊爾梅瑙科技大學，公司的核心競爭力在于傳感器、微系統和控制技術，公司宗旨是讓納米分析技術簡單化，在保證科研嚴謹性的同時提高科研效率。
Nano analytik研發了***款基于新型掃描探針的高性能光刻系統。可在大氣環境下，高經濟效益、快速直寫10納米以下結構和制備納米***器件。該系統的閉環回路可實現使用同***掃描探針對納米結構的成像、定位、檢測和操縱。
掃描探針光刻系統（SPL）
技術特點：
場發射低能電子束
大幅降低電子束背底散射
幾乎消除電子束臨近效應
無需調制電子束聚光
10 nm 以下光刻精度
接近原子***分辨的套刻精度
線寫速度高達 300 μm/s
大氣環境下可實現正負光刻
正光刻流程無需顯影步驟
大范圍分步重復工藝
Mix & Match 混合光刻模式
閉環系統：光刻成像同***針尖反復交替進行
多針尖并聯陣列提高效率
產品規格
| 光刻模式 | 正光刻、負光刻 |
| 工作環境 | 大氣、真空 |
| *小線寬 | 5 nm （驗收指標） |
| 直寫速度 | 300 μm/s |
| 套刻精度 | < 7 nm |
| 拼接精度 | < 10 nm |
| 光刻區域 | 200 μm x 200 μm |
| 樣品尺寸 | 直徑：150 mm （6 英寸） |
| 占用空間 | 80 cm x 100 cm x 190 cm |
探針掃描頭配置
| 工作模式 | 頂部XYZ掃描頭 |
| 掃描范圍 | （XYZ） 10 μm × 10 μm × 5 μm 可擴展至 200 μm × 200 μm |
| 定位精度（XYZ） | 0.01 nm；0.01 nm；0.01 nm |
| 傳感器 | 壓阻閉環傳感 |
| 輸入/輸出頻道 | 3 |
樣品臺配置
| 工作模式 | 底部XY定位器 |
| 運動范圍（XY） | 18 mm × 18 mm 可擴展 150 mm × 150 mm |
| 運動速度 | 20 mm/s |
| 運動精度 | 7 nm |
| 運動重復性 | 80 nm （每運動100 μm） |
AFM功能參數
| 樣品/探針接近 | 自動（無需激光對準） |
| 探針調諧 | 自動 |
| 懸臂梁激發模式 | 雙材料熱機械激發 |
| 檢測原理 | 壓阻讀數 |
| 掃描模式 | 接觸式，非接觸式 |
| 探針移動范圍 | 20 mm × 20 mm × 10 mm |
| 精度 | < 10 nm |
| 重復性 | ± 25 nm |
| AFM成像范圍 | 10 μm × 10 μm × 5 μm 可擴展至 200 μm × 200 μm |
| 本底噪聲 | 0.01 nm rms 垂直方向 |
| 橫向精度 | 99.7% 閉環掃描 |
| 掃描速度 | 0.01 線/秒 至 10 線/秒 |
| 實時圖像顯示 | 二維、三維形貌,相位,頻移,振幅 |
電子配置
| 分辨率 振幅/相位 | 16-bit |
| 反饋控制平臺 | 實時FPGA |
| 帶寬 | 8 MHz |
| 計算機接口 | USB, 以太網可選 |
| 傳感器調節 | 0-4 V可編程電橋 |
軟件
| 實時修正 | 線, 面, 多項式 |
| 輪廓線測量 | YES |
| 粗糙度測量 | YES |
| 對比度/亮度/色彩調節 | YES |
| 3D 圖像 | YES |
| 線平均 | YES |
| 圖像輸出 | bmp, png, jpg格式 |
| 原始數據輸出 | txt格式 |
| 圖像后續處理軟件 | Gwyddion, WSxM |
滬公網安備31011502016460號
