AQUILA公司NKD7000/8000橢偏儀 儀器簡介：
英***Aquila公司是世界的薄膜分析解決方案供應商。
其NKD系列薄膜分析系統是世界上臺專為表征和分析薄膜涂層和基片而設計的光譜儀。適合測量多層薄膜的光學性能n（折射指數）和k（消光系數），以及d（厚度）。
適合多種薄膜材料：介電、聚合物、半導體和金屬。
主要應用在光學涂層, 半導體加工, 平板顯示器, 數據存儲產品, 建筑和高附加值玻璃, 包裝和裝飾材料, 光電器件等領域。
選件豐富，包括軟件選擇入射偏振光及其角度，甚至直徑大到100mm的樣品的X-Y方向上的自動掃描呈像。
AQUILA公司NKD7000/8000橢偏儀 技術參數：
1.波長范圍：280nm-2300nm
2.光譜分辨率：1或2nm (可選)
3.層數：多層
4.薄膜厚度范圍：5nm - 20μm
5.基體：透明，半透明或半吸收
AQUILA公司NKD7000/8000橢偏儀 主要特點：
1.同時測量反射和透射光譜
2.***體化的控制和分析軟件，計算基體中的多種反射
3.數據分析可選用***系列散射模型
4.內置涂層性能數據庫，可編輯，可擴展
5.變角度測量，微光斑測量，樣品可控溫，樣品掃描測試
滬公網安備31011502016460號
