| 日本電子JEOL: JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統
· JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統 · *新高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統，通過全方位的設計優化，實現更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節能。 
*新高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統，通過全方位的設計優化，實現更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節能。 節省空間 標準的設備占地面積為4.9m（W）×3.7m（D）×2.6m（H），比以往機型占用空間更小，外形更加緊湊美觀。 低功耗 正常工作時的功耗約為3kVA，僅需以往機型耗電量的1/3。 高產能 具備高分辨率和高速兩種刻寫模式，非常適用于超微細加工以及批量生產。該設備減少了刻寫過程中的無謂耗時，并將掃描頻率提升至業界*水準的125MHz (以往機型的1.25～2.5倍)，使其具備更高的生產能力。 機型 JBX-8100FS系列設有G1（基本版）和G2（全配版）兩種機型。G1機型裝機后也可進行升***，使其支持更高的應用需求。 新功能 安裝光學顯微鏡（選配）后，在避免光刻膠感光的的同時可對材料上的圖形進行確認。設備還配備了信號塔（標配），實現了視覺范圍內的系統運行狀況監控。 激光定位分辨率 采用分辨率為0.6nm的激光干涉儀，對樣品臺位置進行高精度的量測控制。 系統控制 配備了Linux®系統，圖形用戶界面使操作更加簡單，便于初學者使用。數據準備程序支持Linux®和Windows®
主要技術指標 | 機型 | G1 (基本版) | G2 (全配版) | | 描畫方式 | 圓形束斑, 矢量掃描, 步進重復移動方式 | ← | | 加速電壓 | 100kV | 100kV/50kV | | 電流 | 5×10-12 ～ 2×10-7A | ← | | 寫場尺寸 | 1,000μm×1,000μm | 2,000μm×2,000μm | | 掃描頻率 | 125MHz | ← | | 樣品臺移動范圍 | 190mm×170mm | ← | | 套刻精度 | Q±9nm | ← | | 場拼接精度 | Q±9nm | ← | | 正常工作時的功耗 | 3kVA | ← | | 樣品尺寸 | 200mmΦ的晶圓片, 6英寸的掩模版及任意尺寸的的微小樣品。 | ← | | 材料傳送 | （1張）自動裝載系統 | （12張）自動裝載系統 | | 主要選配件 | 光學顯微鏡
25kV加速電壓
數據準備程序的追加授權 | | 
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